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7 relazioni: Fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore, Fotoresist, Litografia ultravioletta estrema, Lunghezza d'onda, Plasma (fisica), Radiazione ultravioletta, Rivestimento per rotazione.
Fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore
La fabbricazione di dispositivi a semiconduttore è il processo usato per realizzare i circuiti integrati e i chip che sono presenti nella maggior parte dei dispositivi elettronici recenti.
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Fotoresist
Il fotoresist è usato in elettronica e nel campo delle nanotecnologie per la produzione di microchip e sistemi MEMS/MOEMS.
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Litografia ultravioletta estrema
La Litografia ultravioletta estrema o EUV o EUVL acronimi inglesi per Extreme ultraviolet lithography è una tecnologia di prossima generazione di litografia usando lunghezze d'onda nell'ultravioletto estremo (EUV), attualmente atteso per i 13,5 nm.
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Lunghezza d'onda
In fisica, la lunghezza d'onda di un'onda periodica è la distanza tra due creste o fra due ventri della sua forma d'onda, e viene comunemente indicata dalla lettera greca λ.
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Plasma (fisica)
In fisica e chimica, il plasma è un gas ionizzato, costituito da un insieme di elettroni e ioni e globalmente neutro (la cui carica elettrica totale è cioè nulla).
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Radiazione ultravioletta
In fisica la radiazione ultravioletta (UV o raggi ultravioletti o luce ultravioletta) è un intervallo della radiazione elettromagnetica, appartenente allo spettro elettromagnetico, con lunghezza d'onda immediatamente inferiore alla luce visibile dall'occhio umano e immediatamente superiore a quella dei raggi X. Infatti, il termine significa "oltre il violetto" (dal latino ultra, "oltre"), poiché il violetto è l'ultimo colore ad alta frequenza visibile nello spettro percepito dall'uomo, quello con la lunghezza d'onda più corta.
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Rivestimento per rotazione
Il Rivestimento per rotazione (in inglese Spin Coating), è una procedura utilizzata per applicare un film sottile e uniforme ad un substrato solido piano.
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