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90 nm e Silicio su isolante

Scorciatoie: Differenze, Analogie, Jaccard somiglianza Coefficiente, Riferimenti.

Differenza tra 90 nm e Silicio su isolante

90 nm vs. Silicio su isolante

Il processo produttivo a 90 nm (90 nanometri) è l'evoluzione del precedente processo a 130 nm utilizzato per i microprocessori Intel dai primi mesi del 2004 e AMD dai primi mesi del 2005. La tecnologia silicio su isolante (SOI, "Silicon On Insulator", in inglese), si caratterizza per l'uso di un substrato di silicio-isolante-silicio, al posto del convenzionale substrato di silicio, nella produzione di semiconduttori.

Analogie tra 90 nm e Silicio su isolante

90 nm e Silicio su isolante hanno 0 punti in comune (in Unionpedia).

La lista di cui sopra risponde alle seguenti domande

Confronto tra 90 nm e Silicio su isolante

90 nm ha 35 relazioni, mentre Silicio su isolante ha 6. Come hanno in comune 0, l'indice di Jaccard è 0.00% = 0 / (35 + 6).

Riferimenti

Questo articolo mostra la relazione tra 90 nm e Silicio su isolante. Per accedere a ogni articolo dal quale è stato estratto informazioni, visitare:

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