Deposizione fisica da vapore e Fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore

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Differenza tra Deposizione fisica da vapore e Fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore

Deposizione fisica da vapore vs. Fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore

La deposizione fisica da vapore o Physical Vapor Deposition, spesso abbreviata in PVD, è un metodo comune per la deposizione di film sottili sottovuoto, è una tecnica molto diffusa per la fabbricazione di dispositivi elettronici, ma anche diffusamente utilizzata ad esempio per la fabbricazione degli specchi, ottenuti depositando un sottile strato d'alluminio su una lastra di vetro. La fabbricazione di dispositivi a semiconduttore è il processo usato per realizzare i circuiti integrati e i chip che sono presenti nella maggior parte dei dispositivi elettronici recenti.

Analogie tra Deposizione fisica da vapore e Fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore

Deposizione fisica da vapore e Fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore hanno 3 punti in comune (in Unionpedia): Alluminio, Deposizione chimica da vapore, Tungsteno.

Alluminio

L'alluminio è l'elemento chimico della tavola periodica degli elementi che ha come simbolo Al e come numero atomico 13. È il secondo elemento del gruppo 13 ed è collocato tra il boro e il gallio; si trova nel terzo periodo e fa parte del blocco p. È l'ultimo elemento metallico del terzo periodo, dopo sodio e magnesio.

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Deposizione chimica da vapore

La deposizione chimica da vapore (in inglese Chemical Vapor Deposition o CVD) è una tecnica di sintesi che permette di ottenere su supporto solido un deposito a partire da un precursore molecolare, introdotto in forma gassosa e che si decompone sulla superficie del substrato.

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Tungsteno

Il tungsteno o volframio è l'elemento chimico avente numero atomico 74 e il suo simbolo è W. È un metallo di transizione duro, pesante, di colore da bianco a grigio-acciaio, noto per le sue buone proprietà reologiche.

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Confronto tra Deposizione fisica da vapore e Fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore

Deposizione fisica da vapore ha 42 relazioni, mentre Fabbricazione dei dispositivi a semiconduttore ha 47. Come hanno in comune 3, l'indice di Jaccard è 3.37% = 3 / (42 + 47).

Riferimenti

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