Deposizione fisica da vapore e Stechiometria

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Differenza tra Deposizione fisica da vapore e Stechiometria

Deposizione fisica da vapore vs. Stechiometria

La deposizione fisica da vapore o Physical Vapor Deposition, spesso abbreviata in PVD, è un metodo comune per la deposizione di film sottili sottovuoto, è una tecnica molto diffusa per la fabbricazione di dispositivi elettronici, ma anche diffusamente utilizzata ad esempio per la fabbricazione degli specchi, ottenuti depositando un sottile strato d'alluminio su una lastra di vetro. La stechiometria (greco στοιχεῖον "elemento" e μέτρον "misura") è la branca della chimica che studia i rapporti quantitativi delle sostanze chimiche nelle reazioni chimiche.

Analogie tra Deposizione fisica da vapore e Stechiometria

Deposizione fisica da vapore e Stechiometria hanno 1 cosa in comune (in Unionpedia): Ossigeno.

Ossigeno

L'ossigeno è un elemento chimico della tavola periodica degli elementi.

Deposizione fisica da vapore e Ossigeno · Ossigeno e Stechiometria · Mostra di più »

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Che cosa ha in comune Deposizione fisica da vapore e Stechiometria
Analogie tra Deposizione fisica da vapore e Stechiometria

Confronto tra Deposizione fisica da vapore e Stechiometria

Deposizione fisica da vapore ha 42 relazioni, mentre Stechiometria ha 22. Come hanno in comune 1, l'indice di Jaccard è 1.56% = 1 / (42 + 22).

Riferimenti

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