Analogie tra Deposizione fisica da vapore e Trattamento superficiale
Deposizione fisica da vapore e Trattamento superficiale hanno 3 punti in comune (in Unionpedia): Deposizione chimica da vapore, Film sottile, Nitrurazione.
Deposizione chimica da vapore
La deposizione chimica da vapore (in inglese Chemical Vapor Deposition o CVD) è una tecnica di sintesi che permette di ottenere su supporto solido un deposito a partire da un precursore molecolare, introdotto in forma gassosa e che si decompone sulla superficie del substrato.
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Film sottile
Si definisce film sottile uno strato di materiali spesso da frazioni di nanometri (monostrati) a vari micrometri di spessore. Tra le applicazioni principali vi sono i dispositivi elettronici e la ricopertura di sistemi ottici; lo studio e l'uso dei film sottili è molto importante in molti rami della scienza.
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Nitrurazione
La nitrurazione è un processo industriale di indurimento superficiale degli acciai. Il procedimento consiste nel portare l'acciaio a 520-545 °C circa.
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Confronto tra Deposizione fisica da vapore e Trattamento superficiale
Deposizione fisica da vapore ha 42 relazioni, mentre Trattamento superficiale ha 42. Come hanno in comune 3, l'indice di Jaccard è 3.57% = 3 / (42 + 42).
Riferimenti
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