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MOCVD e Nitruro di silicio

Scorciatoie: Differenze, Analogie, Jaccard somiglianza Coefficiente, Riferimenti.

Differenza tra MOCVD e Nitruro di silicio

MOCVD vs. Nitruro di silicio

L'epitassia di fase vapore metallo-organica (metalorganic vapour-phase epitaxy, MOVPE), nota anche come epitassia di fase-vapore di tipo organometallico (organometallic vapour-phase epitaxy, OMVPE) o deposizione di vapore chimico metallorganico (metalorganic chemical vapour deposition, MOCVD), è un metodo di deposizione di vapore chimico usato per produrre film sottili singoli o policristallini. Il nitruro di silicio è un composto chimico del silicio e dell'azoto con formula Si3N4. Il nitruro di silicio Si3N4 è il più termodinamicamente stabile dei nitruri di silicio, il che lo rende il più importante commercialmente dei nitruri di silicio quando si fa riferimento al termine "nitruro di silicio".

Analogie tra MOCVD e Nitruro di silicio

MOCVD e Nitruro di silicio hanno 5 punti in comune (in Unionpedia): Azoto, Deposizione chimica da vapore, Idrogeno, Pirolisi, Silicio.

Azoto

Lazoto (dal greco ἀ- privativa e ζωή «vita»http://www.treccani.it/vocabolario/azoto/) è un elemento chimico della tavola periodica degli elementi. Il suo numero atomico è 7. Il simbolo è N, dal latino nitrogenum, passando dal francese nitrogène che fonde il greco νίτρον, nítron, «nitrato di potassio» e γεν-, ghen-, «dare vita a». Dal francese passò all'italiano come nitrogeno, termine ormai obsoleto. È il primo elemento del gruppo 15 del sistema periodico, facente parte del blocco p, ed è costituente fondamentale delle molecole organiche più importanti dal punto di vista biochimico (DNA, proteine, alcune vitamine), oltre che di composti inorganici estremamente diffusi come l'ammoniaca e l'acido nitrico. L'azoto molecolare, detto anche azoto biatomico o azoto diatomico o diazoto o semplicemente azoto (formula molecolare N2), è un composto formato da due atomi di azoto. Costituisce il 78% dell'atmosfera terrestre (in frazione di volume che è anche approssimativamente la frazione molare) e allo stato puro si presenta sotto forma di gas incolore, inodore, insapore e inerte.

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Deposizione chimica da vapore

La deposizione chimica da vapore (in inglese Chemical Vapor Deposition o CVD) è una tecnica di sintesi che permette di ottenere su supporto solido un deposito a partire da un precursore molecolare, introdotto in forma gassosa e che si decompone sulla superficie del substrato.

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Idrogeno

Lidrogeno (simbolo H, dal latino moderno hydrogenium, basato a sua volta sul greco ὕδωρ, hýdor, «acqua», con la radice γεν-, ghen-, «generare», quindi «generatore di acqua») è il primo elemento chimico della tavola periodica (numero atomico 1) e il più leggero.

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Pirolisi

La pirolisi (o piroscissione) è un processo di decomposizione termochimica, ottenuto mediante l'applicazione di calore e in completa assenza di un agente ossidante (normalmente ossigeno).

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Silicio

Il silicio è l'elemento chimico della tavola periodica degli elementi che ha come simbolo Si e come numero atomico 14. È il secondo elemento del gruppo 14, l'omologo del carbonio, con il quale ha in comune la tetravalenza.

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La lista di cui sopra risponde alle seguenti domande

Confronto tra MOCVD e Nitruro di silicio

MOCVD ha 37 relazioni, mentre Nitruro di silicio ha 92. Come hanno in comune 5, l'indice di Jaccard è 3.88% = 5 / (37 + 92).

Riferimenti

Questo articolo mostra la relazione tra MOCVD e Nitruro di silicio. Per accedere a ogni articolo dal quale è stato estratto informazioni, visitare: