Analogie tra Silicio policristallino e Tetracloruro di silicio
Silicio policristallino e Tetracloruro di silicio hanno 4 punti in comune (in Unionpedia): Deposizione chimica da vapore, Semiconduttore, Silice, Silicio.
Deposizione chimica da vapore
La deposizione chimica da vapore (in inglese Chemical Vapor Deposition o CVD) è una tecnica di sintesi che permette di ottenere su supporto solido un deposito a partire da un precursore molecolare, introdotto in forma gassosa e che si decompone sulla superficie del substrato.
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Semiconduttore
I semiconduttori, nella scienza e tecnologia dei materiali, sono materiali che hanno resistività intermedia tra i metalli e gli isolanti, spesso composti da metalloidi.
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Silice
La silice, o anche anidride silicica o diossido di silicio secondo IUPAC, è un composto del silicio la cui formula chimica è SiO2. È comunemente presente in natura come quarzo.
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Silicio
Il silicio è l'elemento chimico della tavola periodica degli elementi che ha come simbolo Si e come numero atomico 14. È il secondo elemento del gruppo 14, l'omologo del carbonio, con il quale ha in comune la tetravalenza.
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- Analogie tra Silicio policristallino e Tetracloruro di silicio
Confronto tra Silicio policristallino e Tetracloruro di silicio
Silicio policristallino ha 18 relazioni, mentre Tetracloruro di silicio ha 42. Come hanno in comune 4, l'indice di Jaccard è 6.67% = 4 / (18 + 42).
Riferimenti
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