Stiamo lavorando per ripristinare l'app di Unionpedia nel Google Play Store
UscenteArrivo
🌟Abbiamo semplificato il nostro design per una migliore navigazione!
Instagram Facebook X LinkedIn

Nitruro di silicio

Indice Nitruro di silicio

Il nitruro di silicio è un composto chimico del silicio e dell'azoto con formula Si3N4. Il nitruro di silicio Si3N4 è il più termodinamicamente stabile dei nitruri di silicio, il che lo rende il più importante commercialmente dei nitruri di silicio quando si fa riferimento al termine "nitruro di silicio".

Indice

  1. 21 relazioni: Accélérateur Grand Louvre d'analyse élémentaire, Antifusibile, Deposizione chimica da vapore, Diboruro di titanio, Die (elettronica), Effetto Poole-Frenkel, Gian Paolo Tonini, Impiantazione ionica, Lavorazione a ultrasuoni, Memoria NAND flash, Microscopio a forza atomica, MOCVD, Nierite, Nitruri, Nitruro di berillio, Nitruro di boro, Scala di Mohs, Stress termico, Tecnica ceramica, Tetrabromuro di silicio, Trifluoruro di azoto.

Accélérateur Grand Louvre d'analyse élémentaire

L'Accélérateur Grand Louvre d'analyse élémentaire (AGLAE) è un acceleratore di particelle espressamente e interamente dedicato all'analisi chimico-fisica di campioni di interesse culturale, artistico e museale, per l'esame dei materiali costituenti.

Vedere Nitruro di silicio e Accélérateur Grand Louvre d'analyse élémentaire

Antifusibile

Un antifusibile, detto anche antifuse in inglese, è un dispositivo elettrico che si comporta in modo opposto a un fusibile. Considerando che un fusibile inizia con una bassa resistenza ed è progettato per interrompere definitivamente un percorso conduttivo (tipicamente quando la corrente che attraversa il percorso supera un determinato limite), un antifuse presenta inizialmente un'alta resistenza ed è progettato per creare in modo permanente un percorso conduttivo (in genere quando la tensione ai capi del antifuse supera un certo livello).

Vedere Nitruro di silicio e Antifusibile

Deposizione chimica da vapore

La deposizione chimica da vapore (in inglese Chemical Vapor Deposition o CVD) è una tecnica di sintesi che permette di ottenere su supporto solido un deposito a partire da un precursore molecolare, introdotto in forma gassosa e che si decompone sulla superficie del substrato.

Vedere Nitruro di silicio e Deposizione chimica da vapore

Diboruro di titanio

Il diboruro di titanio (TiB2) è una ceramica estremamente dura che possiede un'eccellente conduttività termica, stabilità all'ossidazione e resistenza all'usura.

Vedere Nitruro di silicio e Diboruro di titanio

Die (elettronica)

Il die è la sottile piastrina di materiale semiconduttore sulla quale è stato realizzato il circuito elettronico del circuito integrato, a sua volta realizzato attraverso un procedimento litografico.

Vedere Nitruro di silicio e Die (elettronica)

Effetto Poole-Frenkel

Nella fisica dello stato solido, l'effetto Poole-Frenkel (noto anche come emissione Frenkel-Poole) è un effetto che permette il passaggio di corrente elettrica in un dielettrico.

Vedere Nitruro di silicio e Effetto Poole-Frenkel

Gian Paolo Tonini

È stato vicepresidente della Fondazione Italiana per la Lotta al Neuroblastoma e Responsabile del Laboratorio di Ricerca sul Neuroblastoma a Genova e Padova, Italia, oltre ad essere stato membro del Gruppo di Lavoro sul Neuroblastoma e Coordinatore del Gruppo di Lavoro Tumori Solidi Pediatrici in ambito AIEOP (Associazione Italiana Ematologia-Oncologia Pediatrica).

Vedere Nitruro di silicio e Gian Paolo Tonini

Impiantazione ionica

L'impiantazione ionica è un processo in cui degli ioni vengono impiantati in un solido (in particolare in un semiconduttore) cambiandone le proprietà fisiche.

Vedere Nitruro di silicio e Impiantazione ionica

Lavorazione a ultrasuoni

Le lavorazioni a ultrasuoni sono dei processi in cui un utensile vibrante a frequenze ultrasoniche (~20 kHz) è usato per rimuovere materiale da un pezzo, assistito da un fango abrasivo che scorre tra il pezzo e l'utensile.

Vedere Nitruro di silicio e Lavorazione a ultrasuoni

Memoria NAND flash

Una memoria NAND flash è un tipo di memoria non volatile a stato solido. In quanto memoria non volatile, un dispositivo NAND flash è in grado di mantenere in memoria l'informazione anche se gli viene tolta l'alimentazione.

Vedere Nitruro di silicio e Memoria NAND flash

Microscopio a forza atomica

Il microscopio a forza atomica (spesso abbreviato in AFM, dall'inglese atomic force microscope) è un microscopio a scansione di sonda (SPM) inventato da Gerd Binnig, Calvin Quate e Christoph Gerber nel 1986.

Vedere Nitruro di silicio e Microscopio a forza atomica

MOCVD

L'epitassia di fase vapore metallo-organica (metalorganic vapour-phase epitaxy, MOVPE), nota anche come epitassia di fase-vapore di tipo organometallico (organometallic vapour-phase epitaxy, OMVPE) o deposizione di vapore chimico metallorganico (metalorganic chemical vapour deposition, MOCVD), è un metodo di deposizione di vapore chimico usato per produrre film sottili singoli o policristallini.

Vedere Nitruro di silicio e MOCVD

Nierite

La nierite è un minerale descritto nel 1995 in base ad una scoperta avvenuta in alcuni meteoriti di tipo condrite ed approvato dall'IMA. Il nome è stato attribuito in onore del fisico statunitense Alfred Otto Carl Nier.

Vedere Nitruro di silicio e Nierite

Nitruri

Si definisce nitruro un composto chimico binario prodotto dalla reazione dell'azoto con un elemento chimico avente minore elettronegatività (solitamente metallico o semimetallico).

Vedere Nitruro di silicio e Nitruri

Nitruro di berillio

Il nitruro di berillio è un composto inorganico del berillio e dell'azoto con formula Be3N2. Può essere preparato dagli elementi ad alta temperatura (1100–1500 °C); a differenza dell'azide di berillio (Be(N3)2), si decompone nel vuoto in berillio e azoto.

Vedere Nitruro di silicio e Nitruro di berillio

Nitruro di boro

Il nitruro di boro, (formula chimica BN) è un composto binario, formato da boro e azoto nelle stesse proporzioni. Il nitruro di boro è isoelettronico rispetto alle forme elementari del carbonio e ci sono isomorfismi tra le due specie.

Vedere Nitruro di silicio e Nitruro di boro

Scala di Mohs

La scala di Mohs è un criterio empirico per la valutazione della durezza dei materiali. Prende il nome dal mineralogista tedesco Friedrich Mohs, che la ideò nel 1812.

Vedere Nitruro di silicio e Scala di Mohs

Stress termico

Lo stress termico (o shock termico) è uno stato di sollecitazione interna ad un materiale causato da variazioni termiche che, se brusche, possono causare in elementi fragili (ad esempio lastre di vetro) la loro rottura.

Vedere Nitruro di silicio e Stress termico

Tecnica ceramica

La disciplina che studia la produzione di manufatti costituiti da materiali ceramici (che sono particolari materiali non-metallici inorganici).

Vedere Nitruro di silicio e Tecnica ceramica

Tetrabromuro di silicio

Il tetrabromuro di silicio è l'alosilano con la formula chimica SiBr4. Si presenta come un liquido incolore dall'odore soffocante, dovuto alla reazione di idrolisi con l'umidità dell'aria che rilascia acido bromidrico tossico.

Vedere Nitruro di silicio e Tetrabromuro di silicio

Trifluoruro di azoto

Il trifluoruro di azoto, o fluoruro di azoto(III), è un composto inorganico binario dell'azoto trivalente con il fluoro, avente formula NF3 ed è il primo e il più stabile dei trialogenuri di azoto. Si presenta come un gas incolore, non infiammabile, con un leggero odore di muffa, tossico, non idrolizzabile in acqua.

Vedere Nitruro di silicio e Trifluoruro di azoto

Conosciuto come Si3N4.